IVD離子輔助蒸發技術 當前位置:主頁 > 技術說明 > IVD離子輔助蒸發技術
IVD是離子輔助蒸發鍍膜技術（Ion Assisted Vapor Deposion）的簡稱，是在傳統的蒸發鍍膜的基礎上，利用離子鍍的原理，提高蒸發鍍膜的離化率，進而提高蒸發鍍膜層的性能。
IVD鍍鋁技術廣泛應用于各種軍用、民用的防腐功能涂層，用于替代電鍍，例如：釹鐵硼表面鍍鋁防腐，航空緊固件鍍鋁防腐等。
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